鉬靶材是一種用于濺射鍍膜工藝的高質(zhì)量金屬材料，由于鉬的高熔點和熱穩(wěn)定性，鉬靶材在高溫濺射工藝中表現(xiàn)優(yōu)質(zhì)，具有卓越的性能和廣泛的用途。我們的鉬靶材具有很高的化學純度以確保薄膜沉積過程中的高質(zhì)量和可靠性；還擁有均勻的微觀結(jié)構(gòu)，有助于產(chǎn)生均勻、穩(wěn)定的薄膜。鉬靶材被廣泛應用于半導體制造中，用于制備導電層、光學薄膜和其他功能性薄膜。在光學領(lǐng)域，鉬靶材也可用于制備高反射率鏡片、光學涂層和其他光學元件。
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品名 |
鉬靶材 |
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成分 |
Mo |
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外觀 |
銀白 |
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純度(%) |
≥99.95% |
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相對密度 |
≥99.9% |
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規(guī)格(mm) |
?135×?171×L2700、?125×?151×L2270、W290×L2394×T15、W200×L2650×T18 |
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雜質(zhì)≤ (ppm) |
Fe |
Al |
Si |
Ni |
Cu |
Cr |
Sum |
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100 |
50 |
50 |
50 |
50 |
50 |
500 |
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